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切片事业部副总裁金善明称,湿法黑硅技术的产业化条件已经成熟,预计下半年黑硅产品市场将迎来突破性发展。金善明表示,包括保利
长期以来,多晶太阳电池表面反射率较高的难题一直得不到有效解决,制约了电池效率的进一步提升。湿法黑硅技术(Metal Catalyzed Chemical Etching,MCCE)成功解决了这一难题,突破了这方面的效率限制。
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