激光刻膜机

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设备性能
SDF(SSF)系列激光刻膜机采用半导体泵浦激光器(或全固态激光器)，光点固定不动，工作台带动电池板两维运动，或两维分离，光点沿X轴运动，电池板沿Y轴运动，刻膜专用X-Y工作平台，伺服驱动、滚珠丝杠与导轨传动，或X轴直线电机驱动，通过界面友好的专用控制软件，方便刻膜路径的编辑和修改，利用分光系统，同时完成两路或四路激光同步输出。


应用领域
薄膜太阳电池TCO膜、a-Si膜（μc-Si膜）、Al膜（ZnO膜)的刻膜或划线。


主要技术参数
型号规格 SDF50B SDF10D SSF10B SSF5D
激光波长 1064nm 532nm 1064nm 532nm
激光功率 50W 10W 10W 5W
激光重复频率 200Hz~50kHz 1kHz~100kHz
刻膜线宽 80μm 50μm
刻膜速度 200mm/s 600mm/s
刻膜精度 ±10μm ±10μm
工作台幅面 1250×640mm 或 1100×1400mm
冷却方式 恒温水冷 风冷

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