六、应用 随着器件制造工艺从LSI发展到VLSI,半导体工业对硅材料的要求变得越”来越严格。目前,器件尺寸已大大减小。最
五.、工艺 MCZ法有许多优越性: 1.磁致粘滞性控制了流体的运动,大大地减
三、沿革 MCZ的历史与沿革NTD硅的历史有相似之处。 很早以前就知道磁场
一、引言 近年来,半导体硅工艺中,出现了一种令人注目的新工艺—外加磁场直拉
其次是纯度控制,虽说国产坩埚也都采用了进口的原料,但在坩埚生产过程中各种因素的杂质沾污,导致最终坩埚成
品名 规格 价格 包装 备注 单晶硅片 6" 47 木箱 200±20厚度 6" 49