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掩膜图形对位印刷机
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  • 面议
  • 支持批量采购
  • 发布时间:2013-12-15 17:36

产地:广东 | 归属行业:其他

品牌:捷佳伟创/S.C

有效期至:长期有效

联系人: www

电话: 86 755 81449696

主营: 硅片超声波清洗设备等离子蚀刻设备, 制绒设备, 湿蚀刻设备, 扩散炉, 电池片等离子体化学气相沉积设备 薄膜电池超声波清洗设备

联系地址:广东省深圳市龙岗区横岗街道横坪公路89号数字硅谷(涌鑫工业厂区)D、E栋

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企业信息

深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司

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    资料信息

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  • 所在地:广东

 设备名称:掩模图形对位印刷机

设备型号:JMYS-I  

设备用途:本设备主要用于SE晶体硅太阳能电池制造中掩膜材料剥离后电极栅线的对准印刷。

技术特点:

●本设备采用高级特殊光源,可对PECVD后掩膜痕迹进行清晰识别。通过精确图形对位功能及全新的对位算法,确保电极栅线能准确印刷在掩膜痕迹上。

●整机采用以太网总线控制系统,响应速度快,系统稳定、可靠,维护成本低。

●集成气动阀并通过以太网接口控制,高速响应。

●刮刀压力能自动适应网板张力的变化。

●高精度直线电机双印刷台设计,满足高精度、高产能需求。


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