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二氧化硅靶材SiO2一氧化硅靶材SiO磁控溅射靶材
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  • 发布时间:2020-03-30 15:27

产地:北京 北京 通州 | 归属行业:溅射靶材

品牌:晶迈中科

有效期至:长期有效

联系人: 刘东

电话: 4000903950

主营: 靶材,金属靶材,陶瓷靶材,化合物靶材,合金靶材

联系地址:北京市通州区张家湾镇北大化村东2幢二层B2256

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企业信息

北京晶迈中科材料技术有限公司

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  • 所在地:北京 北京 通州

 科研实验专用二氧化硅靶材SiO2一氧化硅靶材SiO磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍

        二氧化硅(SiO2)常温下为固体,不溶于水,是酸性氧化物,不跟一般酸反应,但溶于氢氟酸及热浓磷酸,能和熔融碱类起作用。自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅两种。结晶二氧化硅因晶体结构不同,分为石英、鳞石英和方石英三种。二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光导纤维、电子工业的重要部件、光学仪器、工艺品和耐火材料的原料,是科学研究的重要材料。
产品参数
中文名 二氧化硅       化学式 SiO2          熔点 1650±50℃
分子量 60.084          密度2.2 g/cm3      沸 点 2230℃
纯度 99.99%
产品介绍
        一氧化硅(SiO)常温常压下为黑棕色至黄土色无定形粉末,难溶于水,能溶于稀氢氟酸和硝酸的混酸中并放出四氟化硅,熔点:1702°C,沸点:1880°C,密度2.13g/cm³,一氧化硅不太稳定,在空气中会氧化成二氧化硅膜而钝化,仅在高于1200℃才稳定;在氧气中燃烧,和水反应生成氢气。一氧化硅微粉末因极富有活性,可作为精细陶瓷合成原料,如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料;用作光学玻璃和半导体材料的制备;在真空中将其蒸发,涂在光学仪器用的金属反射镜面上,作为保护膜;半导体材料的制备。
产品参数
中文名 一氧化硅         化学式 SiO         分子量 44.08
熔点 1702℃               沸点 1880℃       密 度 2.13g/cm3
纯度 99.99%
支持合金靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
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刘东

   
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