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扩散结深度的测量
发表于:2012-04-21 14:19:45
来源:shine magazine/光能杂志作者:shine magazine/光能杂志

实验内容与目的

1. 用磨角染色法测量硅片经硼扩散后所形成的PN结的结深。

2. 使学生掌握PN结染色原理,了解实际扩散工艺制作的PN结的深度

实验仪器与原理

1. 用磨角器,,金相显微镜白炽灯,电炉进行测量。

2. 用磨角法将Si片上pn结深尺寸放大,结深:

其中:L为P区测量值,Xj扩散结深,θ=5°(磨角器的平台与斜面夹角)

3. Si的电极电位低于CuSi能从硫酸铜染色液中把Cu置换出来,而且在Si表面上形成红色Cu镀层,又由于N型Si的标准电极电位低于P型Si的标准电极电位,因此会先在N型Si上先有Cu析出,这样就把P-N结明显的显露出来。

4. 硫酸铜溶液的配方:CuSO4·5H2O48% HFH2O=5g2mL50mL染色液中加入少量HF的目的是为了把硅片表面的氧化物去除,使反应能顺利进行。

实验步骤

1. 磨角器放在电炉上加热,温度高于松香熔化温度时,用坩埚钳取下磨角器,将被测硅片用松香沾在磨角器上。然后,在玻璃片上用水和牙膏进行抛光,直到露出斜面为止。

2. 用乙醇棉球擦拭磨好的硅片,取下硅片,放入硫酸铜镀液中,白炽灯照射30秒钟,注意观察,当发现N型区染上红色后,立即将硅片投入水中清洗,然后用滤纸吸干。

3. 在显微镜上观察PN结,在测微尺上直接读取已被放大的,染红的N区尺寸。

关键词: 扩散结 深度 测量
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